Deposition of metallurgical and dielectric coatings by electron beam and comparison with sputtering and thermal evaporation methods of coating

Deposition of metallurgical and dielectric coatings by electron beam and comparison with sputtering and thermal evaporation methods of coating

 

Torr International has made many electron beams systems for many applications such as hard coating, lift off and optical applications. The electron gun employed in e beam coating is with a 270 deg bent beam, in order for the source to not interfere with the evaporation material. Some of the advantages of electron beam deposition are a very low contamination level, a high temperature source in order to melt high temperature melting point materials, excellent rate control and minimum contamination of source material. Various diagnostic measurement techniques such as in situ crystal oscillator thickness measurement and ellipsometry are employed. Control systems are made either fully manual, with PLC Control or computer control. Combination systems with the same vacuum chamber combining all or some sources with electron beam, sputtering or ion beam assist are made. Comparisons between deposition characteristics of various sources are made.

 

„Torr International” направи много електроннолъчеви системи за различни приложения, такива като твърди покрития, „лифт-оф“ микрогравиране, оптични приложения. Електронният лъч, използван в лъчевите покрития е един отклонен на 270о лъч, за да има електронен източник, който да не се влияе от изпарения материал. Някои от преимуществата на електроннолъчевото отлагане са: много ниското ниво на замърсявания, един много високо-температурен точков източник на изпарение на труднотопими материали, прекрасен контрол на скоростта на изпарение и минимум замърсявания от материала на източника. Приложими са различни измерителни техники като разположено на мястото измерване на дебелината чрез кристално осцилиране и елипсометри. Контролната система е напълно ръчна, с PLC контрол или компютърен контрол. Направено е комбиниране на системи на една вакуумна камера – с всички или някои от източниците с електронен лъч, разпрашване или йонно лъчево асистиране.

 

Download PDF full text