Optical and Structural Investigations of WOx Thin Films Deposited by Electron Beam Evaporation Process

Optical and Structural Investigations of WOx Thin Films Deposited by Electron Beam Evaporation Process

 

Thin films of tungsten oxide are obtained at different technological parameters using electron beam evaporation process. Their optical and structure properties are investigated and the relation with process parameters is discussed. Optical transmittance of 75 % of as-deposited WOx films is achieved and found to be dependent on deposition process parameters. The electron beam power is found to be decisive parameter for the thin film surface roughness.

 

Получени са тънки слоеве от волфрамов оксид чрез електроннолъчево изпарение при различни технологични условия. Оптическите и структурни характеристики на слоевете зависят силно от стойностите на технологичните параметри. Оптическа прозрачност от 75 % е измерена за свежо отложени WOx слоеве и е установена зависимост от условията на отлагане на слоевете. Мощността на електронния сноп е важен фактор за повърхностната грапавост на слоевете.

 

Download PDF full text